この記事の要点: 株式会社カイジョーは、半導体製造工程や精密電子部品向けに、接液洗浄方式を採用した新型超音波洗浄機「QUAVA mini Mega Puck」を発売しました。本製品は、業界最高水準となる3MHzの高周波に対応し、微細化した回路パターンを破損させることなく、ナノからミクロンオーダーの微粒子やエッチング残渣を効果的に除去する精密洗浄システムです。
発表内容のポイント
- 独自の接液洗浄方式により、広い有効面積で均一に超音波を伝達し洗浄ムラを防止
- 発振器に警告信号機能を搭載し、振動子とワークの最適な設置距離を維持可能に
- 石英、ステンレス、サファイアの振動板を用意し、多様な薬液に対応可能
発表の背景
半導体デバイスの高性能化・微細化に伴い、製造工程における微粒子の付着やエッチング後の微小な残渣が、歩留まり低下を招く致命的な要因となっています。しかし、従来の強力な超音波洗浄では、微細化した繊細な回路パターンを破壊してしまうリスクがありました。この「高い洗浄力」と「回路へのダメージレス」という相反する課題を解決するため、同社は長年培った超音波技術を活かして本製品を開発しました。
何が発表されたのか
本製品は、超音波を印加した液膜を形成して汚れを除去する接液方式を採用しています。高周波領域の超音波洗浄で課題となるエネルギー減衰を防ぐため、発振器に「警告信号機能（ギャップインジケータ機能）」を搭載。振動子と被洗浄物の最適な距離を保ち、安定した超音波の伝播を実現します。また、振動子冷却機構を搭載することで、周波数の安定化と長時間の連続運転を可能にし、振動子の長寿命化にも貢献します。
製造業・生産管理への見方
半導体前工程や電子部品、光学素子、シリコンウエハなどの製造現場において、洗浄工程の歩留まり改善は極めて重要なテーマです。本製品が採用する接液方式は、バッチ方式のような再付着リスクや、シャワー方式のような強い衝撃による回路破損リスクを抑え、均一な超音波照射を可能にします。SiCやGaNなどの次世代パワー半導体ウエハ、MEMS、フォトマスクといった、傷が許されない超精密ワークの洗浄プロセス改善に寄与します。
現場で確認したいポイント
- 自社の洗浄工程で使用している薬液に対して、どの振動板材質（石英・サファイア等）が適合するか
- 既存の洗浄ラインや装置スペースに、発振器（5kg）や振動子を設置・統合可能か
- 対象とするワークの微細度に対して、950kHzと3MHzのどちらの周波数帯が最適か
確認しておきたい点
本製品の導入効果や具体的な洗浄性能は、ワークの形状や使用する薬液などのプロセス条件によって異なる可能性があります。また、製品仕様における使用可能液温は15〜40℃とされているため、温めて使用する薬液プロセスへの適用可否についてはメーカーへの確認が必要です。
関連リンク
- 株式会社カイジョー 公式サイト：製品の製造元であるカイジョーの企業情報サイトです。
- 発表企業のPR TIMESページ
出典情報
| 出典 | PR TIMES |
|---|---|
| 発表企業 | 株式会社カイジョー |
| 発表日時 | 2026-07-16 10:43:33 |
| 元記事 | PR TIMESで読む |
