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QunaSys、材料開発の計算時間を短縮するMLIP活用ウェビナーを7月29日に開催

機械学習を用いたポテンシャル(MLIP)の最新動向と、自社データを用いたファインチューニングによる精度改善手法を解説するウェビナーが開催されます。

生産現場のシステムNAVI編集部
QunaSys、材料開発の計算時間を短縮するMLIP活用ウェビナーを7月29日に開催

この記事の要点: 株式会社QunaSysは、材料開発や分子シミュレーションの効率化をテーマにしたオンラインウェビナー「“そのまま使う”から“合わせて使う”へ:MACE-Osakaファインチューニングの実践」を2026年7月29日に開催します。近年注目を集める機械学習を用いたポテンシャル(MLIP)の基礎から、自社データを用いた調整手法であるファインチューニングの具体例までを専門家が解説します。

発表内容のポイント

  • 第一原理計算に比べ計算時間を大幅に短縮できるMLIPの最新動向を解説
  • 銅表面における吸着エネルギーを題材に、ファインチューニングのデモを披露
  • 将来的な量子計算や高精度計算との連携シナリオ、中長期的な展望を紹介

発表の背景

材料開発の現場では、従来の第一原理計算(DFT)に比べて計算時間を大幅に短縮できるMLIPの活用が広がっています。しかし、汎用モデルをそのまま導入するだけでは、自社の研究テーマに対して十分な精度が得られないことや、評価方法が分からないという課題がありました。こうした背景から、既存モデルを自社データで調整し、実務で使える精度へ改善する手法を提示するために本ウェビナーが企画されました。

何が発表されたのか

ウェビナーでは、大阪大学の水上渉教授とQunaSysの担当者が登壇します。前半は注目を集める「MACE-Osaka」の特徴や研究開発における価値、将来的な量子計算との連携について解説します。後半は、銅表面における吸着エネルギーの事例を用いた計算デモを実施。MACE-Osakaのファインチューニング結果を、DFTや他の汎用モデルと比較し、精度と計算時間の違いを整理します。単なるエネルギー曲線の改善にとどまらず、構造緩和やMDの安定性など、実務の意思決定に直結する評価設計の考え方も紹介されます。

製造業・生産管理への見方

製造業の素材開発やデバイス開発において、新材料のシミュレーション速度と精度の向上は、開発期間の短縮に直結する重要なテーマです。本ウェビナーで紹介されるMLIPのファインチューニング技術は、汎用モデルの弱点を自社データで補完し、実用的な精度を確保するための現実的なアプローチとなります。材料インフォマティクスやCAEを活用する生産技術・開発部門にとって、自社の研究テーマに即したシミュレーション環境を構築するための具体的な知見を得る機会となります。

現場で確認したいポイント

  • 自社の材料開発テーマにおいて、現在のシミュレーション精度や計算時間に課題があるか
  • 汎用モデルの導入だけでなく、自社データを用いたファインチューニングの体制があるか
  • 将来的な量子計算や高精度計算の導入に向けた、中長期的なロードマップを描けているか

確認しておきたい点

ウェビナーの参加には事前登録が必要で、申込締切は2026年7月27日(月)となっています。また、登壇者やプログラム内容は予告なく変更される場合があります。

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出典情報

出典 PR TIMES
発表企業 株式会社QunaSys
発表日時 2026-07-06 08:00:01
元記事 PR TIMESで読む

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