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ICP-MSによるプロセス制御:半導体製造における「予測的管理」への転換
半導体の微細化が進む中、pptレベルの微量不純物管理が歩留まりを左右する死活問題となっています。本稿では、高感度分析技術であるICP-MSをプロセス制御に応用することで、従来の事後的な品質管理から、製造の安定性と効率を本質的に高める「予測的...
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半導体の微細化が進む中、pptレベルの微量不純物管理が歩留まりを左右する死活問題となっています。本稿では、高感度分析技術であるICP-MSをプロセス制御に応用することで、従来の事後的な品質管理から、製造の安定性と効率を本質的に高める「予測的...