ニュース

ジェイテクト、台湾の半導体展示会で先端熱処理装置を出展

ジェイテクトグループのジェイテクトサーモシステムが「SEMICON Taiwan 2026」に出展。先端パッケージやセラミックス部品向けの熱処理技術を披露します。

生産現場のシステムNAVI編集部
ジェイテクト、台湾の半導体展示会で先端熱処理装置を出展

この記事の要点: 株式会社ジェイテクトのグループ会社である株式会社ジェイテクトサーモシステムは、2026年9月2日から4日まで台湾で開催される世界最大級の半導体製造関連機器展「SEMICON Taiwan 2026」に出展します。「最先端の熱処理技術でお客様の困り事を解決」をコンセプトに、生成AIやデータセンターの高性能化に伴い需要が高まる先端デバイス・部品の製造工程向け熱処理装置を紹介します。

発表内容のポイント

  • 先端半導体パッケージに対応する大型角形基板用のクリーンオーブンを提示
  • 面発光レーザー(VCSEL)の高品質な酸化狭窄構造を形成する縦型炉を紹介
  • 過熱水蒸気によりセラミックス部品の脱脂時間を最大70%短縮する装置を提案

発表の背景

生成AIの普及やデータセンターの高性能化を背景に、先端半導体パッケージや高性能デバイスの需要が急増しています。これに伴い、製造工程における高度な温度制御や雰囲気制御、処理効率の向上が求められています。ジェイテクトサーモシステムは、これまで培った熱処理技術を活かし、半導体製造の高度な課題に対するソリューションを提案することで、市場の要求に応える狙いがあります。

何が発表されたのか

展示では、主に3つの装置が紹介されます。1つ目は、大型液晶ディスプレイ基板向け技術を応用し、最大600mm角の大型角形基板にも対応する先端半導体パッケージ用クリーンオーブンです。2つ目は、面発光レーザー(VCSEL)の電流制御構造を均一かつ安定して形成する縦型炉で、業界トップレベルの実績を持ちます。3つ目は、静電チャックなどのセラミックス部品向けに、過熱水蒸気を用いて熱衝撃を抑えつつ脱脂処理時間を最大70%短縮する熱処理装置です。

製造業・生産管理への見方

半導体や電子部品の製造現場において、熱処理工程の精度と効率化は歩留まり改善や生産性向上に直結する重要な要素です。特に、大型基板への対応や、セラミックス部品の脱脂工程における処理時間の短縮は、製造ラインのサイクルタイム短縮に大きく貢献します。液晶分野で実績のある搬送・温度制御技術を半導体分野へ応用展開するアプローチは、高精度な製造プロセス構築を目指す生産管理担当者にとって注目すべき技術動向と言えます。

現場で確認したいポイント

  • 自社の半導体パッケージング工程において、大型角形基板への対応が必要か確認する
  • セラミックス部品の脱脂工程における処理時間や、割れ・熱衝撃の発生状況を検証する
  • VCSELなどの光学デバイス製造において、酸化処理の均一性と再現性に課題がないか確認する

確認しておきたい点

本リリースに記載されている各装置の導入効果(処理時間最大70%短縮など)は、特定の従来プロセスと比較した際のものであり、導入先の既存設備やワークの仕様によって効果が異なる可能性があります。

関連リンク

出典情報

出典 PR TIMES
発表企業 株式会社 ジェイテクト
発表日時 2026-08-17 11:00:02
元記事 PR TIMESで読む

コメントを残す

メールアドレスが公開されることはありません。 が付いている欄は必須項目です