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米大学、半導体製造コストを削減するナノ印刷技術を開発

米ノースイースタン大学の教授が、従来の半導体製造コストを大幅に削減するナノスケール・オフセット印刷技術を開発。

生産現場のシステムNAVI編集部
米大学、半導体製造コストを削減するナノ印刷技術を開発

この記事の要点: 米国ノースイースタン大学のアーメッド・ブスナイナ教授が、半導体や電子部品の製造コストを劇的に削減する革新的なナノスケール印刷技術を開発しました。この業績により、同教授は米国のハイブリッドエレクトロニクス製造研究所「NextFlex」の2026年フェローに選出されました。従来の半導体製造設備が数百億ドル規模に高騰する中、積層造形(アディティブ・マニュファクチャリング)を応用した安価な製造手法として注目を集めています。

ニュースのポイント

  • 25ナノメートル(髪の毛の約1万分の1)の極微細な回路や電子部品を印刷できる技術を開発
  • 従来のインクジェットプリンタや3Dプリンタと比較して、1000倍高速な印刷速度を実現
  • スタートアップ企業「Nano OPS」を通じて、本技術の商業化と製造装置のスケールアップを推進

背景

半導体製造工場の建設コストは、1990年代半ばには約10億ドルでしたが、現在では200億〜400億ドルにまで高騰しています。この莫大な初期投資がボトルネックとなり、多くの企業が自社での半導体製造から撤退を余儀なくされていました。ブスナイナ教授は、このコスト課題を解決するため、材料を削る従来の手法ではなく、層を積み重ねる「積層造形」に着目し、2004年からナノスケール製造技術の研究を続けてきました。

何が起きたのか

今回評価された技術は、ナノスケールのオフセット印刷プラットフォームです。これにより、わずか25ナノメートルという極微細な電子回路を高速かつ低コストで印刷することが可能になります。従来の半導体露光・エッチング工程を必要としないため、数十億ドル規模のクリーンルームや製造設備への投資を大幅に圧縮できます。さらに、この技術は従来の3Dプリンタやインクジェット技術よりも1000倍高速に動作し、電子部品の生産性を飛躍的に向上させます。

製造業・生産管理への見方

日本の製造業や生産管理部門にとっても、半導体やスマートセンサーの調達・内製化プロセスを根本から変える可能性を秘めています。特に多品種少量生産が求められる産業用センサーやカスタム電子部品において、高額なマスクや金型を作ることなく、オンデマンドで高速に回路を印刷できるようになります。これにより、サプライチェーンの混乱に対する耐性が高まり、試作から量産までのリードタイムが劇的に短縮されることが期待されます。

現場で確認したいポイント

  • 自社製品に搭載するセンサーや電子基板の製造に、積層造形(印刷技術)が適用可能か検討する
  • 半導体や電子部品の調達リードタイム短縮に向けて、オンデマンド印刷技術の動向を注視する
  • スタートアップ「Nano OPS」が展開する商業化装置のスペックや、自社ラインへの導入可能性を評価する

確認しておきたい点

本技術はスタートアップ企業「Nano OPS」を通じて商業化が進められている段階であり、既存の最先端シリコンウエハ製造プロセス(数ナノメートルプロセス)のすべてを即座に代替できる段階に達しているかは未確認です。

出典情報

出典 Northeastern Global News
公開日時 2026-08-21T20:22:02+00:00
元記事 Northeastern Global Newsで読む

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