この記事の要点: リーガルテック株式会社は、半導体・電子部品業界における訴訟や紛争対応を対象とした「技術紛争資料共有ワークフロー」の提供を開始しました。本ワークフローは同社が提供する「リーガルテックVDR」の導入企業向けに展開されるもので、特許侵害訴訟や技術流用紛争の際に発生する極めて機密性の高い技術資料について、安全かつ適切な管理・開示・共有プロセスを体系化し、法務・知財実務を支援します。
発表内容のポイント
- 回路設計図や製造プロセス仕様書など、機密性の高い技術資料の開示プロセスを体系化
- 訴訟フェーズや関係者の役割に応じたアクセス権限・閲覧範囲の段階的コントロールを実現
- 誰がいつ資料を閲覧したかを自動記録するログ管理や、資料の版管理・差替管理に対応
発表の背景
半導体・電子部品業界では、独自技術が競争力の源泉であるため、特許侵害や技術流用を巡る紛争が国内外で頻発しています。訴訟対応時には、回路設計図や製造プロセス資料などの機密情報を、社内だけでなく外部の弁護士や鑑定人、時には相手方代理人とも共有する必要があります。しかし、体系的な仕組みがない現場では、担当者の経験に依存した属人的な管理になりやすく、情報漏洩や管理漏れのリスクが課題となっていました。
何が発表されたのか
今回提供されるワークフローは、資料の分類から権限設計、開示段階の管理までを網羅しています。対象資料は、回路設計図や製造プロセス仕様書といった技術資料から、実験データ、特許出願書類、品質検査記録まで多岐にわたります。これらを証拠資料や社内検討資料などに分類し、初期調査や和解交渉といった訴訟フェーズに応じて開示範囲を段階的に制御します。さらに、資料の修正時に旧版との整合性を保つ版管理や、閲覧ログの確認手順も整備されています。
製造業・生産管理への見方
製造業、特に半導体や電子部品の生産現場において、製造プロセスや設計データは最重要の知的財産です。これらが係争に巻き込まれた際、技術部門は法務部門と連携して迅速に資料を提出する必要がありますが、現場の機密情報が不適切に拡散することは避けなければなりません。本ワークフローの導入により、技術部門から法務部門への資料提供ルールが明確化され、外部関係者への開示範囲も厳格にコントロールできるため、現場の知財流出リスクを抑えながら迅速な訴訟対応が可能になります。
現場で確認したいポイント
- 自社の設計図面や製造プロセス仕様書などの知財が、有事の際に誰にどこまで開示されるか
- 外部の弁護士や鑑定人へ技術資料を渡す際、閲覧履歴の記録やアクセス停止が確実に実行できるか
- 複数の特許紛争や係争案件が並行して発生した場合に、案件ごとの情報隔離が担保されているか
確認しておきたい点
本ワークフローは「リーガルテックVDR」の導入企業向けに提供されるサービスであり、単体での利用や他社システムとの連携可否については、事前に確認が必要です。
関連リンク
- 発表企業サイト：リーガルテック株式会社のコーポレートサイト
- 関連ページ：リーガルテックVDRの製品紹介ページ
- 発表企業のPR TIMESページ：リーガルテック株式会社のプレスリリース一覧
出典情報
| 出典 | PR TIMES |
|---|---|
| 発表企業 | リーガルテック株式会社 |
| 発表日時 | 2026-07-15 17:00:01 |
| 元記事 | PR TIMESで読む |
