LightBridge、光デバイス設計基盤を展示会で実演。試作コスト削減へ

発表内容のポイント

• 自社開発の光デバイス設計プラットフォーム「Photonica」のワークフローを実演
• Ansysの光学・フォトニクス解析ツールを用いたナノフォトニクスデバイス設計のデモ
• 欧州ファウンドリと連携し、複数ユーザーでウェハを共有する安価な試作サービスを紹介

発表の背景

生成AIやデータセンターの普及に伴い、光チャネルの大容量化や低消費電力化が求められています。シリコンフォトニクスファウンドリの世界市場は2034年に21億ドル規模へ拡大すると予測される一方、光デバイスの開発現場では、設計・解析・試作の工程が分断されているため、試作コストの増大や開発期間の長期化が共通の課題となっています。同社はこれらの課題を解決するため、一気通貫の開発基盤の提供を目指しています。

何が発表されたのか

展示では3つの柱を紹介します。1つ目は、Ansysの正規代理店として提供する「Ansys Lumerical」や「Ansys Zemax OpticStudio」などの光学解析ツールです。2つ目は、複数の解析ツール間の連携をスムーズにし、作業負担を軽減する自社開発の設計プラットフォーム「Photonica」です。3つ目は、Smart PhotonicsやLIGENTECといった欧州ファウンドリと連携したMPW（マルチ・プロジェクト・ウェハ）試作サービスで、1枚のウェハを複数ユーザーで共有することで低コストな試作を可能にします。

製造業・生産管理への見方

製造業や生産管理の視点において、光デバイスや半導体関連の試作開発プロセスをいかに効率化するかは重要なテーマです。同社のシミュレーション技術と試作サービスを組み合わせることで、従来の開発プロセスにおける試作回数を4〜6回から1〜2回へ、開発期間を6〜12ヶ月から2〜4ヶ月へ短縮し、試作コストを20〜40%程度に圧縮できる実績が示されています。これにより、開発から生産移行へのリードタイムを大幅に削減し、製品の早期市場投入に貢献することが期待されます。

現場で確認したいポイント

• 自社の光デバイス開発において、設計・解析・試作の連携にどれだけのリードタイムがかかっているか
• MPW試作サービスが、自社で検討している光集積回路やメタレンズの仕様に対応しているか
• Photonicaと既存のAnsys製品との連携による、設計データの移行や作業効率化の具体的な手順

確認しておきたい点

Photonicaは現在も開発が進められているプラットフォームであり、自社の具体的な設計対象や既存ツールとの互換性については、展示会場や個別問い合わせでの詳細な確認が必要です。

関連リンク

• 発表企業サイト：株式会社LightBridgeの公式ウェブサイトです。
• 関連ページ：「光・レーザー関西2026」の公式ページです。
• 発表企業のPR TIMESページ

出典情報